- Tytuł:
- Improved Silicon Surface Passivation by ALD Al2O3/SiO2 Multilayers with In‐Situ Plasma Treatments
- Autorzy:
- Temat:
-
aluminum oxide
atomic layer deposition
plasma treatment
silicon oxide
silicon surface passivation
Physics
QC1-999
Technology - Źródło:
- Advanced Materials Interfaces, Vol 10, Iss 16, Pp n/a-n/a (2023)
- Opis pliku:
- electronic resource
- Relacje:
- https://doaj.org/toc/2196-7350
- Dostęp URL:
- https://doaj.org/article/8df6da5f5fd2419789ac5bc09ebe9000  Link otwiera się w nowym oknie
Czasopismo naukowe